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EUV光刻机有望进入中国?

2018-07-26 18:00 来源:网络 作者:网络

中国是全球最大的半导体市场,但是国产化率很低,主要的芯片研发、生产、测试都要依赖国外公司,所以这几年主管部门加大了半导体产业投入,各地投资兴建晶圆厂、封装厂已经屡见不鲜。有了政府扶植,国内公司不差钱,但是并不掌握半导体核心技术,比如光刻机这种芯片制造关键设备就严重落后于Intel、三星等公司。受制于美国等国家的封锁,中国公司有钱也买不到先进光刻机,特别是下一代工艺中至关重要的EUV光刻机,不过EUV光刻机的生产方ASML日前宣布进军中国,将在上海设立一个培训中心。

中国

半导体制造工艺进入10nm之后,难度越来越大,目前在用的193nm光刻技术已经不足以应付未来7nm、5nm工艺需要,所以业界就在研发EUV极紫外光刻工艺。这种光刻机难度非常大,10年前就看到Intel等公司联合研发EUV光刻机的新闻了,到现在EUV光刻机还没有成熟,不过曙光也在眼前了,EUV光刻机已经开始少量出货,产能也在逐步提升,TSMC、三星都会在第二代7nm节点商用EUV工艺。

全球现在能研发EUV光刻机的也就荷兰ASML公司,为此还得到了Intel、TSMC、三星等公司大笔投资,这三家也是目前EUV光刻机最主要的客户。根据他们发布的2016年Q4财报,EUV光刻机去年订单就有18台,总价值超过20亿欧元,换算下来一台EUV光刻机至少要1亿多欧元了,接近8亿人民币。

国内公司忌惮的倒不是价格,而是EUV光刻机现在并不能出口到中国,欧美对中国的高科技出口有限制,国内的半导体公司就算是想买也买不到EUV光刻机。

不过话说回来,中国这么大的市场,ASML公司一直错过机会也不甘心,无论如何也都会进入中国市场。日前他们宣布与中国上海的集成电路研究开发中心(ICRD)达成了合作协议,双方将在上海设立一个培训中心,用于支持ASML客户支持,同时还会对中国境内的集成电路工程师展开技术培训。

这次合作虽然只是培训中心,但也是一个开始,一步到位地在国内出售先进光刻机并不现实。从此前展讯公司的表态来看,美国政府部门并不限制14nm工艺进入中国,否认同级别的TSMC 16nm工艺落户南京也不可能的。

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